高纯度钛钼合金靶材 TiMo 磁控溅射 难熔合金钛钼

钛钼靶材是由钛 (Ti) 和钼 (Mo) 合金组成的溅射靶材，其成分比例可根据实际应用需求进行调整以优化薄膜性能。钛钼合金结合了钛的轻质、高强度和优异的耐腐蚀性，以及钼的高熔点、高硬度和良好的导电性。这赋予了钛钼靶材一系列优异的特性，包括：

- 物理性质: 高熔点（取决于合金比例，通常高于1400℃），高强度，良好的延展性（取决于比例和处理工艺），高硬度，低热膨胀系数。其密度介于钛和钼之间，具体数值取决于合金组成。

- 化学性质:  优异的耐腐蚀性，尤其在还原性气氛下表现突出。对大多数酸和碱具有良好的耐受性，但需注意强氧化性介质的腐蚀。  表面容易形成钝化膜，进一步增强其耐蚀性。

- 力学性能:  高强度和良好的韧性使其能够承受溅射过程中产生的应力，延长靶材的使用寿命。  其耐磨性也相对较好。

- 电学性能:  良好的导电性，使其沉积的薄膜具有优异的导电性能，适用于电子器件领域。

应用领域:

钛钼靶材广泛应用于各种薄膜沉积技术，例如磁控溅射、直流溅射和射频溅射等，主要用于：

- 半导体工业:  沉积具有高导电性、低电阻的薄膜，用作互连线、电极等； 制备具有特定电学性能的薄膜，例如用于集成电路中的金属化层。

- 光学领域:  沉积具有高反射率或特定光学特性的薄膜，例如用于光学元件的镀膜。

- 装饰涂层:  沉积具有高硬度、耐磨性和美观外观的装饰性薄膜。

- 生物医学材料:  沉积具有生物相容性的薄膜，用于生物医学植入物。

- 其他领域:  例如，在航空航天领域用于制造耐高温、耐腐蚀的部件。