型号:Sup-Al2O3
形状:片状
简述:探索 Al2O₃(氧化铝)陶瓷基材,该基材以其高强度、耐热性和电绝缘性而闻名。这些基板非常适合半导体器件、微电子封装和传感器,可提高苛刻环境中的性能和可靠性。
氧化铝(Al₂O₃)陶瓷基片在半导体领域具有多种具体应用,主要包括:
1. 集成电路封装:
- 氧化铝基片常用作集成电路(IC)的封装材料,提供良好的电绝缘性和热管理,确保器件的可靠性和性能。
2. 高频和高功率器件:
- 在射频(RF)和功率放大器中,氧化铝基片作为基底材料,有助于有效散热并提高器件的工作效率。
3. 薄膜晶体管(TFT):
- 在显示器和其他微电子应用中,氧化铝基片被用作薄膜晶体管的基底,支持高性能的显示技术。
4. 传感器:
- 氧化铝基片广泛应用于温度、压力和气体传感器中,因其优异的耐高温性和电绝缘性,适合在各种环境中使用。
5. MEMS器件:
- 在微机电系统(MEMS)中,氧化铝基片用于制造传感器和执行器,提供稳定的机械支持和电绝缘性。
6. LED和激光器封装:
- 氧化铝基片在LED和激光器的封装中,作为有效的散热材料,帮助提高光电器件的效率和稳定性。
这些应用充分发挥了氧化铝陶瓷基片的优良特性,使其成为半导体行业中不可或缺的材料。
参数 | 单位 | ||
密度 | g/cm3 | 3.78 | |
硬度(HV) | GPa | 13.9 | |
抗折强度 | GPa | 380 | |
热导率 | W/m.K | 26 | |
热膨胀系数 40~400° | m/K | 7.2x10E-6 | |
介电常数 | @1MHZ | 9.6 | |
介质损耗角 | @1MHZ | 3.0x10E-4 | |
体积电阻率 | @25℃ | Ohm.cm | >10E14 |
@300℃ | Ohm.cm | 1.0x10E10 | |
@500℃ | Ohm.cm | 1.0x10E8 |
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