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  • 锰靶Mn溅射靶材 金属合金 99.99% 高纯材料
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锰靶Mn溅射靶材 金属合金 99.99% 高纯材料

元素符号:Mn
CAS:[不适用]
型号:Sup-Mn
纯度:3N5,3N,2N8,2N5
形状:圆形
厚度:(可定制)
直径:(可定制)
(注:纯度、形状、厚度和尺寸均可定制)

锰靶材(Manganese Target)是一种主要由锰(Mn)制成的靶材,广泛应用于物理气相沉积(PVD)和其他薄膜沉积技术。锰因其独特的物理化学特性,在材料科学、电子器件制造及自旋电子学等领域具有重要的应用价值。

### 物理化学性质

- 化学符号:Mn

- 原子序数:25

- 密度:约 7.43 g/cm³

- 熔点:1246°C (2275°F)

- 沸点:2061°C (3742°F)

- 导电性:中等导电性,适合用作电极材料

- 磁性:锰为铁磁性金属,具有良好的磁性和自旋极化特性

- 抗氧化性:在常温下较为稳定,但在高温下易氧化,形成锰氧化物

### 主要参数

- 靶材纯度:通常为99.9%或更高的高纯度

- 尺寸规格:常见尺寸为直径2-6英寸(50-150mm),厚度可根据需求定制

### 在半导体领域的应用

1. 掺杂材料  

   锰作为掺杂剂在半导体材料中使用,尤其是锰掺杂的锌氧化物 (ZnO) 和锰掺杂的硅 (Si) 中。锰的引入可以提高材料的电导性、光电特性和磁性,使其适用于新能源和光电器件。

2. 自旋电子学  

   在自旋电子学器件中,锰掺杂材料(如锰氧化物)具有优良的自旋极化特性,适合用于制造自旋阀和磁随机存取存储器(MRAM)。这种材料能够有效地结合电子的电荷和自旋,提升器件性能。

3. 薄膜沉积  

   锰靶材可用于沉积锰基薄膜,这些薄膜在半导体器件中可用来改善界面特性和载流子迁移率。锰薄膜在场效应晶体管(FETs)和其他微电子器件中有潜在应用。

4. 磁性半导体  

   锰掺杂的半导体材料(如锰铟镓硒和锰铝镓)在量子计算和磁存储设备中有重要应用。它们可用于制造新型磁性半导体器件,推动自旋电子学的发展。

5. 传感器应用  

   锰材料在气体传感器和温度传感器中的应用逐渐增多,利用锰的化学反应性和导电性,可以提高传感器的灵敏度和响应速度。


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