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  • 高纯度铝锡铜靶材 磁控溅射 AlSnCu
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高纯度铝锡铜靶材 磁控溅射 AlSnCu高纯度铝锡铜靶材 磁控溅射 AlSnCu高纯度铝锡铜靶材 磁控溅射 AlSnCu高纯度铝锡铜靶材 磁控溅射 AlSnCu

高纯度铝锡铜靶材 磁控溅射 AlSnCu

元素符号:AlSnCu
CAS:[不适用]
型号:Sup-AlSnCu
纯度:3N5,3N,2N8,2N5
形状:圆形
厚度:(可定制)
直径:(可定制)
(注:纯度、形状、厚度和尺寸均可定制)

铝锡铜合金靶材(Aluminum Tin Copper Alloy Target)是一种重要的靶材,广泛应用于物理气相沉积(PVD)等薄膜沉积技术。由于其优良的物理化学性能,铝锡铜合金靶材在半导体和电子器件制造中具有重要作用。

### 物理化学性能

- 化学成分:主要由铝(Al)、锡(Sn)和铜(Cu)组成,比例可根据应用需求调整。

- 密度:约 2.7 g/cm³(具体密度根据合金成分不同而略有变化)。

- 熔点:铝约 660°C (1220°F),锡约 232°C (450°F),铜约 1085°C (1985°F)。

- 导电性:铝和铜具有优良的导电性,铝的电导率约为 60% IACS,铜的电导率约为 100% IACS。

- 抗腐蚀性:铝合金表面易形成氧化膜,提高抗腐蚀性能,锡的加入进一步增强了合金的耐腐蚀性。

### 主要参数

- 合金成分:铝含量通常在80%-90%,锡和铜的比例可根据具体应用要求进行调整。

- 机械性能:抗拉强度可达到200-300 MPa,具有良好的延展性和加工性。

- 硬度:通常为70-90 HB(布氏硬度)。

### 半导体方面的应用

1. 靶材  

   用于物理气相沉积(PVD)过程,沉积铝锡铜合金薄膜,提供良好的电导性和机械性能。

2. 互连材料  

   在半导体器件中用于电气互连,确保低电阻连接,提升信号传输效率。

3. 焊接材料  

   用于半导体封装中的焊接,锡作为焊料连接芯片与基板。

4. 热管理  

   用于散热器和热沉,帮助半导体器件有效散热,延长使用寿命。

### 其他方面的应用

1. 电子元件  

   在各种电子元器件的互连和封装中使用。

2. LED照明  

   作为LED灯具的散热结构,增强散热效果。

3. 电池制造  

   用于电池中的连接和封装材料,确保良好的电接触。

4. 自动化设备  

   在自动化和机器人技术中用于连接和导电部件,提升设备性能。

5. 航天航空  

   用于制造轻量化结构件,提升飞行器的燃油效率。

6. 医疗设备  

   应用于医疗器械中的导电部件,确保设备安全和可靠。


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