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  • 3N高纯实验室研究用铬铝靶材CrAl
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3N高纯实验室研究用铬铝靶材CrAl3N高纯实验室研究用铬铝靶材CrAl

3N高纯实验室研究用铬铝靶材CrAl

元素符号:AlCr
CAS:[不适用]
型号:Sup-AlCr
纯度:3N5,3N,2N8,2N5
形状:圆形
厚度:(可定制)
直径:(可定制)
(注:纯度、形状、厚度和尺寸均可定制)

铬铝合金(CrAl)溅射靶材主要用于物理气相沉积(PVD)工艺。通过溅射或蒸发等方法,它们在基材上沉积一层铬铝合金薄膜,赋予其特定的性能。这些薄膜具有优异的耐磨性、耐腐蚀性、耐高温性和装饰性。


属性Cr-70Al  at%Cr-60Al  at%Cr-50Al  at%

纯度(%)

99.8/ 99.9/ 99.9599.8/ 99.9/ 99.9599.8/ 99.9/ 99.95

Density(g/cm3)

3.74.354.55

Grain Size(μm)

100/50100/50100/50
ProcessHIPHIPHIP

我公司生产的AlCr溅射靶材具有优异的机械性能,可有效防止靶材断裂。粉末的完全熔化显著减少了使用过程中液滴的形成,从而形成了更光滑的沉积涂层。这些靶材广泛应用于模具应用。联系我们获取更多信息。



AlCr sputtering target.png

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