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  • 高纯实验室镍钒(NiV)合金靶材
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高纯实验室镍钒(NiV)合金靶材高纯实验室镍钒(NiV)合金靶材

高纯实验室镍钒(NiV)合金靶材

元素符号:镍钒(NiV)
CAS:[不适用]
型号:Sup-NiV
纯度:4N,3N
形状:圆形,方形
厚度:(可定制)
直径:(可定制)
(注:纯度、形状、厚度和尺寸均可定制)

镍钒合金 (NiV) 溅射靶材是一种用于薄膜应用物理气相沉积 (PVD) 工艺的专用材料。这种合金结合了镍优异的耐腐蚀性和导电性与钒增强的机械性能。

Note: Purity, shape, thickness, and dimensions can all be customized,Please feel free to contact us for more details.

Purity (%)ShapeManufacturing processMax. Size
99.99%, 99.95%, 99.9%

Plane target, Cylindrical target,

 Arc target, Custom-shaped target

Vacuum Melting,PMCustomized

To receive a prompt quotation and expedited delivery, please provide complete target material specifications. This includes details on purity, dimensions, tolerance requirements, and any other technical specifications.

主要特点
增强耐用性:NiV 合金具有卓越的耐磨性,非常适合需要持久性能的应用。
导电性好:NiV靶材具有优异的导电性,适合用作半导体器件的电极材料。
高温稳定性:该合金即使在高温下也能保持其结构完整性和性能,使其适合高温应用。
应用领域
镍钒合金溅射靶材广泛应用于半导体行业的导电薄膜沉积,以及其他先进应用,例如航空航天和汽车部件的涂层。它们独特的特性使它们对于提高电子设备的性能和可靠性很有价值。

结论
镍钒合金 (NiV) 溅射靶材在现代制造工艺中发挥着至关重要的作用,可在苛刻的环境中提供最佳性能,同时为各个领域的技术进步做出贡献。

Nickel Vanadium Alloy (NiV) Sputtering Target.png

Nickel Vanadium Alloy (NiV) Sputtering Target.png

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