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可旋转三区PECVD管炉系统
产品描述
OTF-1200X-III-R5-PECVD 是一款1200ºC可旋转三区等离子体增强化学气相沉积（R-PE-CVD）系统，旨在以相对较低的温度对粉末表面进行涂层，以形成核壳结构颗粒，同时也可用于粉末表面清洗。该系统内置自动粉末进料和接收系统，实现连续的粉末涂层。温度、等离子体功率和4通道气体质量流量控制（MFC）通过触摸屏面板和笔记本电脑进行控制，操作简便
产品参数
系统结构 | - 0~25°可调倾斜框架，辅助顺畅的粉末装卸。 - 集成300W（13.56MHz）射频电源和匹配网络，实现等离子体增强处理，显著降低高温处理的需求。 - 齿轮驱动的管道旋转允许“混合”型处理，以实现最佳的处理均匀性。 - 四通道气体混合站配备质量流量控制（MFC），提供精确的气体输送控制。 - 包含气密性粉末给料机和接收器，支持高达1000克的连续粉末涂层处理。 |
三区旋转炉 | - 工作温度：最高1200ºC（<1小时），连续加热时为1100ºC。 - 三个数字温度控制器，具有30段可编程功能，精度为+/-0.1ºC。 - 输入功率：208 – 240VAC，单相，最大4.0 KW。 - 分体式盖子设计，便于快速冷却和操作。 - 三个加热区：6" + 12" + 6"，总长度为24"（609 mm）。 - 恒温区长度：480 mm，温度波动在+/-2ºC内。 - 齿轮直流电机驱动石英管，变速范围为2 - 10 RPM。 |
等离子体射频电源 | - 输出功率：5 - 300W 可调，稳定性为±1%。 - 射频频率：13.56 MHz，稳定性为±0.005%。 - 反射功率：最大100W。 - 匹配方式：自动。 - 射频输出端口：50 Ω，N型，母头。 - 噪声：<50 dB。 - 冷却方式：风冷。 - 电源：208-240VAC，单相，50/60Hz。
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石英管 | 包含一个专门设计的5英寸外径熔融石英处理管。
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密封法兰 | - 每端安装有一对1英寸外径快速断开法兰，配有KF25接口。 - 使用磁流体密封旋转接头，使管道旋转时不会扭曲火线或下游附件（如气体、粉末和电气输送线）。
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管道旋转速度 | - 0 - 5 RPM 可调速。 |
真空泵与真空计 | - 附带EQ-FYP高性能双级真空泵，详情规格请联系我们。 - 在泵与管道法兰之间连接KF25适配器和不锈钢波纹管。 - 处理管内可实现10E-2 Torr的真空。 - 注意：真空计可提供，需另行收费，详情规格请联系我们。 |
| 炉子倾斜角度 | 0~25° |
| 气体混合站 (MFC) | - 底部机壳上安装有四个精密质量流量计（精度为0.02%），配备数字显示，能够自动控制气体流量。 - MFC 1：气体流量范围为0~100 SCCM - MFC 2&3：控制范围为0~200 SCCM - MFC 4：控制范围为0~500 SCCM - 气体进出口配件：6mm外径管配件 - 电源：208-240VAC，50/60Hz - 不锈钢针阀用于手动开/关气体供应控制。 - 大型PLC触摸屏控制，便于设置流量。
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| 温度控制 | - 采用两个加热区设计，配备独立温度控制器。 - 精确的PID控制加热、冷却速率和保持时间，支持30个可编程段。 - 内置过热和断热电偶保护。 - 过温保护和报警功能，允许无人值守操作。 - 温度精度为+/- 1 ºC。 - 三个K型热电偶（每个区域一个）。 - 配备RS485通信端口。 |
| 尺寸规格 | - 测量尺寸如下： - 炉体：2800mm 长 x 800mm 宽 x 1700mm 高 （打开盖子时）； - 气体混合站：600mm 长 x 850mm 宽 x 700mm 高； - 净重：400 磅。 - 装运重量：500 磅。
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容积式给料机和收集罐（可选） | - EQ-PF-1S自动给料机包括一个电动搅拌器和带有内置振动器的不锈钢料斗。该设备旨在将固体粉末送入炉中进行连续烧结/热处理，给料速度可调范围为0 - 97 ml/分钟。请点击左侧的图片1。 - 不锈钢收集罐（2升容量）可安装在处理管的另一端，以收集烧结后的粉末，避免暴露在空气中。
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| 保修期 | 一年有限制造商保修（消耗部件如处理管、O型环和加热元件不在保修范围内，请在下方相关产品中订购替换件）。 |
| 认证情况 | • CE 认证 • NRTL或CSA认证可按额外费用提供。 |
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