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产品描述
PECVD炉是一种理想且经济的工具，用于将薄膜沉积或从气态（蒸气）生长纳米线，具有以下优点：
- 与传统CVD相比，处理温度更低。
- 通过高低频混合技术可以控制膜应力。
- 通过工艺条件控制化学计量比。
- 提供广泛的材料沉积选择，包括SiOx、SiNx、SiOxNy和非晶硅（a-Si:H）沉积。
产品参数
分体式管式炉 | - 最高工作温度1200°C，持续时间< 60分钟 - 最高连续加热温度1100°C - 30段可编程精密数字温度控制器 - 440mm长的单加热区和150mm长的恒温区 - 高纯度石英管（可选） - 一对带阀的真空密封法兰 - 外径2"（50.8mm），内径1.7"（43.2mm），长度48"（约1219mm） - 外径3.14"（79.8mm），内径2.83"（71.9mm），长度48"（约1219mm） - 输入功率：208 – 240V AC，单相，最大4KW
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| 等离子射频电源 | - 输出功率：5 - 300W，可调，稳定性±1% - 射频频率：13.56 MHz，稳定性±0.005% - 反射功率：最大200W - 匹配方式：自动 - 射频输出端口：50 Ω，N型，母头 - 噪声：<50 dB - 冷却方式：风冷 - 电源：208-240VAC，50/60Hz - 注意：该射频电源可通过更换法兰适配50 - 80 mm的最大石英管
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| - 测量范围：3.8 × 10^-5 到 1125 Torr - 抗腐蚀，气体类型独立 - 在大气条件下具有高精度和重现性，可靠检测大气压力 - 快速大气检测消除了等待时间，缩短了工艺周期 - 易于更换的即插即用传感器元件 |
| 真空泵和阀门 | - 重型旋片真空泵（7.8 CFM - 240 L/m），底部箱体内安装有双级排气系统，最大真空压力为10^-2 torr。 - KFD25适配器和不锈钢管通过精密球阀连接泵与管法兰。 - 数字真空压力计和显示器与炉体一同安装。
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| 质量流量计 | - 4通道气体混合系统 - 采用316不锈钢阀门 - 气体混合罐：Φ80 x 120mm - 尺寸：600mm（长）x 745mm（宽）x 700mm（高） - 6英寸彩色触摸屏控制面板，便于参数设置 - 触摸屏控制与PC远程切换 - 每通道功率：23W - 电源：AC 220V/50Hz 单相 |
| 认证 | •CE认证 •NRTL或CSA认证可应要求提供，但需额外付费。 |
温度控制 | - MET认证，提供30个可编程段，以精确控制加热速率、冷却速率和保温时间。 - 内置PID自动调节功能，具备过热和断热电偶保护。 - 过温保护和报警功能，允许无人值守操作。 - 温度精度±1 ºC。 - 配备RS485通讯端口。
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| 规格 | - 炉体尺寸：550mm（长）x 380mm（宽）x 520mm（高） - 三个底部移动箱体总尺寸：1800mm（长）x 850mm（宽）x 700mm（高） |
| Warranty | 一年有限制造商保修（加工管、O型圈和加热元件等易损件不在保修范围内） |
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