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产品描述
这款PECVD炉系统可以升级到更先进的型号，并提供多种选项。它是研究人员在有限预算下进行创新的理想工具。
- 与传统CVD相比，处理温度更低。
- 采用滑动炉实现高加热和冷却速率。
- 通过高低频混合技术可以控制膜应力。
- 通过工艺条件控制化学计量比。
- 能够进行多种材料沉积，包括SiOx、SiNx、SiOxNy和非晶硅（a-Si:H）沉积。
产品参数
自动滑动分体管炉 | - 输入功率：208 – 240V AC，1.2kW - 最高工作温度1200°C，持续时间< 60分钟 - 最高连续加热温度1100°C - 高纯度石英管，外径2"（约50.8mm），内径1.7"（约43.2mm），长度39.4"（约1000mm） - 30段可编程精密数字温度控制器 - 8"（200mm）单区，温度波动±1°C，在1000°C时内径2.3"（60mm）
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| 等离子体射频发生器 | - 输出功率：5 - 300W，可调，稳定性±1% - 射频频率：13.56 MHz，稳定性±0.005% - 反射功率：最大200W - 匹配方式：自动 - 射频输出端口：50 Ω，N型，母头 - 噪声：<50 dB - 电源：208-240VAC，50/60Hz - 冷却方式：风冷 |
真空法兰和配件 | - 真空法兰组件由304不锈钢制成。 - 左侧法兰组件包括： - KF-25真空端口 - 两个KF-25快速夹具 - 一个KF-25直角阀 - 一个KF-25真空波纹管 - 法兰支撑 - 3/8外径的带刺接头 - 一个针阀 - 右侧法兰组件包括： - 一个数字Pirani真空计 - 1/4外径的管接头 - 1/4"穿透接头 - 一个针阀 - 一个KF-16快速夹具套件 |
| 真空泵 | - 电源：208 - 240V / 50-60 Hz（最大750W） - 流量：220升/分钟或7.8立方英尺/分钟 - 包含油雾消除器 - 最大真空：3 × 10^-3 torr
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| 规格 | 尺寸: - 整体尺寸：1500mm x 600mm x 1200mm（整个系统，长 x 宽 x 高） - 净重：350磅 - 装运重量：480磅 |
| 保修 | 一年有限制造商保修（加工管、O型圈和加热元件等易损件不在保修范围内） |
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