OTF-1200X-II-PE-RR 实验室规模的卷对卷PECVD管炉系统

产品描述

OTF-1200X-II-PE-RR是一款实验室规模的卷对卷PE-CVD（等离子体增强化学气相沉积）管炉系统，主要包括300W射频等离子体源、80mm外径的双加热区分体式管炉（最高可达1200ºC）、3通道质量流量控制气体输送站、高品质机械真空泵，以及两个真空腔体，具备基材进出卷绕功能，配有触摸屏控制面板。该R2R系统旨在探索在薄箔或导线上连续生长石墨烯或其他二维薄膜的灵活性，以满足工业需求。

产品参数

双加热区管炉	- 两个加热区，单个加热区长度为440 mm，恒温区长度为250 mm。 - 最高工作温度为1200ºC，持续时间不超过60分钟。 - 连续加热时，最大温度为1100ºC。 - 30段可编程精密数字温度控制器，精度为+/-1ºC。 - （Eurotherm 3000温度控制器可选，精度为+/-0.1ºC）。 - 高纯度石英管：80mm外径 x 72mm内径 x 1400 mm长度（2.83"内径 x 55"长度）。 - 可选的100 mm外径 x 94 mm内径管。 - 输入功率：208 - 240V AC，单相，最大功率为3KW。 - 三个加热区的炉子可选。
等离子体射频电源	- 输出功率：5 - 300W 可调，稳定性为±1%。 - 射频频率：13.56 MHz，稳定性为±0.005%。 - 匹配方式：自动。 - 射频输出端口：50 Ω，N型，母头。 - 噪声：<50 dB。 - 冷却方式：风冷。 - 电源：208-240VAC，50/60Hz，单相。
R2R 真空腔体	- 两个真空腔体位于炉子的两端，与石英管连接。 - 基材进出用的卷绕辊位于真空腔内。 - 基材的卷绕速度可调范围为1-400 mm/min。 - 内置精密张力控制机制，范围为0 - 1000g。 - 最大可移动基材宽度为65 mm，适用于80 mm外径管。 - 附带一卷65 mm宽、0.025 mm厚（约5 kg）的铜箔，供客户练习使用。 - 可根据要求提供100 mm外径管，最大可供宽度为80 mm的基材。 - 卷对卷机制带有速度控制器和密封法兰，如有需求可提供不带炉子的选项。
三通道气体输送站
真空泵和阀门	- 重型旋片真空泵（7.8 CFM - 240 L/m），配备两级排气系统，安装在底部机壳中，最大真空压力为10^-2 Torr。 - KFD25适配器和不锈钢管道通过球阀连接泵与管道法兰。 - 数字真空压力计和显示器与炉子一同安装。 - 无油泵及气体混合与输送系统可提供，PID压力控制真空系统可根据要求提供，需额外费用。
防腐压力计	- 测量范围为3.8x10^-5至1125 Torr。 - 防腐蚀，气体类型独立。 - 在大气条件下具有高精度和可重复性，确保可靠的大气压力检测。 - 快速的大气检测消除等待时间，缩短工艺周期。 - 传感器元件易于更换，支持即插即用。
控制面板	- 7英寸触摸屏控制面板，可控制温度、气体流量和等离子体功率。 - 可根据要求提供PC控制软件，以便通过笔记本电脑进行远程操作（须购买预装软件的笔记本电脑）。
温度控制	- 配备两个温度控制器，具有30个可编程段，温度精度为+/- 1 ºC。 - 内置PID自调功能，带有过热和断热电偶保护。 - 过温保护和报警功能，允许无人值守操作。 - 配备RS485通信端口和PC操作软件。 - 可将温度控制器升级为Eurotherm控制器，精度为0.1 ºC，并附带软件。
可选	- 我们可以将炉子升级为5英寸管，并生长4英寸宽的薄膜。 - 可根据要求提供直径可达8英寸的卷对卷CVD系统管道。
规格尺寸	• 2400 L x 600 W x 1250 H mm
保修	一年有限制造商保修（消耗部件如处理管、O型环和加热元件不在保修范围内）
认证情况	• CE 认证 • NRTL (UL61010) or CSA 可额外付费认证