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  • 高纯实验室锆靶材 Zirconium
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高纯实验室锆靶材 Zirconium 高纯实验室锆靶材 Zirconium 高纯实验室锆靶材 Zirconium

高纯实验室锆靶材 Zirconium

元素符号:锆靶材 Zirconium(Zr)
CAS:[不适用]
型号:Sup-Zr
纯度:3N5, 2N5
形状:圆形,方形
厚度:(可定制)
直径:(可定制)
(注:纯度、形状、厚度和尺寸均可定制)

锆靶产品详情:

      锆靶材是一种应用于薄膜沉积过程中的材料,主要由锆(Zr)元素组成。铌是一种银灰色的、稀有的、质地较软且具有延展性的过渡金属,它的熔点为2468℃,密度为8.57g/cm3,蒸气压为0.0755帕(2741K)。它具有高熔点、良好的化学稳定性和优秀的耐腐蚀性能,这些特性使其成为制造半导体、光电器件和装饰性薄膜的理想选择。作为靶材,锆靶材能够在物理气相沉积(PVD)等过程中产生高纯度的锆蒸气,从而形成均匀、高质量的薄膜。

Purity (%)ShapeManufacturing processMax. Size
99.999%, 99.99%, 99.95%

Plane target, Cylindrical target,

 Arc target, Custom-shaped target

Vacuum Melting,PMCustomized


锆靶材制备工艺:

      准备锆材料:准备高纯的锆原材料;

      准备熔炉:在熔炉中放置锆材料,加入保护气体(通常是氩气);

      熔炉升温:将熔炉加热至锆材料的熔点(约1852°C);

      熔炉降温:待锆材料完全熔化后,降低熔炉温度,使锆材料逐渐凝固;

      取出锆靶材:待熔炉冷却后,取出锆靶材,进行后续的加工和处理。

锆靶材应用:

       锆靶材主要用于制备金属氧化物、金属和合金等薄膜,这些薄膜在半导体、光电子、化学及生命科学等领域中都有重要的应用。例如,在半导体领域,锆靶材可用于制备MOSFET器件中的栅电极和金属互连层;在光电子领域,锆靶材可用于制备电子束蒸发器中的阴极和光学涂层。

金属锆其他应用:

      核工业:金属锆是核燃料棒的重要组成部分,可以提供优异的耐腐蚀性和机械强度,同时还可以作为核反应堆的燃料包壳材料。

      化学工业:金属锆可以作为化学反应容器和管道材料,具有优秀的耐腐蚀性能和高温稳定性能,可以用于各种化学反应和处理。

      航空航天工业:金属锆可以用于制造高温部件,如涡轮叶片、喷气发动机零件等,因为它具有高温强度和热膨胀系数小的特点。

      医疗器械:金属锆可以用于制造人工关节、牙科种植体等,因为它具有良好的生物相容性和机械能。

      电子工业:金属锆可以用作电子器件的封装材料和电极材料,因为它具有优异的导电性能和耐高温性能。

      只要您提供详细的靶材信息,如纯度,尺寸,公差要求,及其他技术要求,我们将尽快为您提供报价,并提供快的交期。

Zr Sputtering Target.png

Zr Sputtering Target.png

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