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  • Máquina de recubrimiento por centrifugado Lab resistente a ácidos y álcalis para cristal semiconductores VTC-200P
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Máquina de recubrimiento por centrifugado Lab resistente a ácidos y álcalis para cristal semiconductores VTC-200PMáquina de recubrimiento por centrifugado Lab resistente a ácidos y álcalis para cristal semiconductores VTC-200P

Máquina de recubrimiento por centrifugado Lab resistente a ácidos y álcalis para cristal semiconductores VTC-200P

Nombre del Producto: Centrífuga de recubrimiento Lab resistente a ácidos y álcalis para cristal semiconductores.

Modelo del Producto: VTC-200P

Descripción del Producto: El TC-200P Spin Coater de vacío es adecuado para procesos de recubrimiento de superficies en semiconductores, cristales, discos ópticos y fotomáscaras. Esta máquina se puede usar para la preparación de recubrimientos con soluciones de ácido fuerte y álcali fuerte. La cámara del VTC-200P Spin Coater de vacío no se puede evacuar; durante la operación, utiliza una placa de vacío para sujetar las muestras de forma segura en el soporte de muestras. Este dispositivo puede almacenar 12 conjuntos de programas, cada uno conteniendo 6 etapas de operación.

Descripción del Producto

El VTC-200P Spin Coater de vacío es adecuado para procesos de recubrimiento de superficies en semiconductores, cristales, discos ópticos y fotomáscaras. Esta máquina se puede usar para la preparación de recubrimientos con soluciones de ácido fuerte y álcali fuerte. La cámara del VTC-200P Spin Coater de vacío no se puede evacuar; durante la operación, utiliza una placa de vacío para sujetar las muestras de forma segura en el soporte de muestras. Este dispositivo puede almacenar 12 conjuntos de programas, cada uno conteniendo 6 etapas de operación.

Diferentes etapas de operación tienen diferentes velocidades de rotación, lo que permite al dispositivo aumentar gradualmente la velocidad hasta el máximo, ayudando a lograr una formación de película uniforme en la superficie de la muestra sin desperdicio excesivo, lo que ahorra materiales. La cubierta superior de la cámara puede calentar las muestras (característica opcional), lo cual es beneficioso para el proceso de recubrimiento de materiales de película viscosa. El VTC-200P Spin Coater de vacío es simple de operar, fácil de limpiar y compacto, lo que lo hace principalmente utilizado en laboratorios de universidades e institutos de investigación para procesos de generación de películas.


Parámetros del Producto

Nombre del Producto

Máquina de recubrimiento por centrifugado Lab resistente a ácidos y álcalis para cristal semiconductores.

Modelo del ProductoVTC-200P
Condiciones de instalación

1. Temperatura y Humedad: 1085% HR (a 25°C, sin condensación); Temperatura: 045°C.

2. Entorno: No debe haber fuentes de vibración fuerte ni gases corrosivos en las cercanías del equipo.

3. Agua: El equipo está equipado con un desagüe.

4. Energía: Monofásica: AC 220V, 50Hz, enchufe nacional de tres clavijas, 10A, debe tener buena conexión a tierra.

5. Gas: Presión negativa de vacío (bomba de vacío), con un flujo de bombeo de no menos de 70L/min (el equipo puede estar protegido por gas inerte).

6. Mesa de trabajo: Las dimensiones recomendadas son 800X600X700mm, con una capacidad de carga de más de 100KG (se prefiere una mesa de cemento sólido).

7. Ventilación: Sin requisitos especiales.


Parámetros Principales

1. Conexión de Energía: Toma de corriente con fusible: AC220V 50Hz; especificación del fusible: 10A, φ5×20mm (este dispositivo admite personalización para productos AC110V 50/60Hz).

2. Potencia Total: ≤150W (sin incluir la bomba de vacío externa).

3. Material de la Cámara Principal de Recubrimiento: Polipropileno.

4. Soporte de Muestra (Ventosa): Una ventosa de vacío de polipropileno Φ100 (si está equipada con función de calefacción, está hecha de PTFE).

5. Modo de Operación: Puede almacenar 12 conjuntos de programas, cada uno conteniendo 6 etapas de operación.

6. Velocidad de Recubrimiento: 500rpm-6000rpm.

7. Tasa de Aceleración y Desaceleración: Rango de configuración de aceleración y desaceleración de cada etapa: 100 rpm —2000 rpm.

8. Tiempo de Recubrimiento: Rango de tiempo para cada etapa: 0-60s.

9. Estabilidad de Velocidad: ±1%.

10. Método de Control: Microcontrolador PCB con control por botón y pantalla LCD LMC.

11. Método de Calefacción: El equipo estándar no tiene esta función (esta máquina puede personalizarse opcionalmente para agregar una función de calefacción, con un sistema de control de temperatura independiente no relacionado con el control principal).

12. Temperatura de Calefacción: Temperatura máxima personalizable: RT-100℃.

13. Potencia de Calefacción: AC220V 1000W.

14. Precisión del Control de Temperatura: ±2℃.

Especificaciones del producto

Dimensiones:

- Unidad Principal: Φ250mm x 360mm  

- Caja de Control: 330mm x 380mm x 150mm  

Peso: 15kg

Accesorios Estándar

Item No.Nombre del Producto
Qty
1

Ventosa de Vacío Φ100mm  

1 set

2

 Oring  

1 set
3

Dispositivo de Centrado (Incluye 4 Columnas de Posicionamiento)  

1 set
4

 Reservorio de Líquido   

1 set
5

Soporte para Reservorio de Líquido  

1 set
6 Bomba de Vacío Sin Aceite1 set

Accesorios Opcionales

Item No.Nombre del Producto
Qty
1

Ventosas de Vacío de Otras Dimensiones

Optional
2

Pipeta

Optional

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