CuAl 铝铜靶 合金溅射靶材 高纯度管靶

镍铝合金靶材产品详情：

Note: Purity, shape, thickness, and dimensions can all be customized,Please feel free to contact us for more details.

To receive a prompt quotation and expedited delivery, please provide complete target material specifications. This includes details on purity, dimensions, tolerance requirements, and any other technical specifications.

铝铜溅射靶材是一种重要的薄膜沉积材料，广泛应用于半导体和微电子领域。其优异的物理化学性能使其成为金属互连、电极材料以及其他薄膜应用的理想选择。

物理化学性能:

优异的导电性: 铝铜合金具有极高的电导率，确保电流高效传输，满足高频高速电子器件的需求。其电导率大小取决于合金成分比例，通常高于纯铝。

良好的导热性:  有助于快速散热，提高器件的可靠性和稳定性，尤其在高功率应用中至关重要。导热率同样取决于合金成分。

较好的耐腐蚀性:  在特定环境下表现出一定的耐腐蚀性，但具体耐腐蚀性取决于合金成分和环境条件。通常需要根据实际应用选择合适的合金比例。

良好的机械性能:  具有足够的强度和韧性，能够承受溅射过程中的机械应力，保证靶材的使用寿命。

可控的薄膜特性: 通过调整铝铜合金的成分比例，可以精确控制溅射沉积薄膜的电阻率、晶粒尺寸、表面粗糙度等特性，满足不同应用的需求。

参数:

铝铜靶材的参数会因制造商和具体应用而异，但通常包括以下方面：

成分比例:  铝和铜的比例会影响其物理化学性能，例如电导率、导热率和耐腐蚀性。常见的比例包括Al-Cu (90/10), Al-Cu (80/20) 等。

纯度:  靶材的纯度直接影响薄膜的质量和性能，通常要求高纯度。

尺寸和形状:  根据应用需求，可以定制不同尺寸和形状的靶材，例如圆形、矩形等。

厚度:  靶材的厚度会影响溅射速率和使用寿命。

表面粗糙度:  影响薄膜质量，通常要求较低的表面粗糙度。

应用领域:

集成电路制造:  作为金属互连层，连接芯片的不同部分，保证信号的高效传输。

半导体器件:  用作电极材料，例如在晶体管、二极管等器件中。

薄膜太阳能电池:  用于制造高效的薄膜太阳能电池。

其他电子器件:  在各种电子器件中用作导电层或电极材料。