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高纯实验室铝Al靶材高纯实验室铝Al靶材高纯实验室铝Al靶材

高纯实验室铝Al靶材

元素符号:铝靶材 Al
CAS:[不适用]
型号:Sup-Al
纯度:2N5, 4N, 4N5, 5N
形状:圆形
厚度:(可定制)
直径:(可定制)
(注:纯度、形状、厚度和尺寸均可定制)

铝(Al)是一种银白色的轻金属,具有良好的导电性、耐腐蚀性和优异的加工性能。由于其密度较低(约2.7 g/cm³)和优良的机械性能,铝在多个工业领域得到广泛应用,尤其是在半导体和电子行业。

Note: Purity, shape, thickness, and dimensions can all be customized,Please feel free to contact us for more details.

Purity (%)ShapeManufacturing processMax. Size
99.999%, 99.995%, 99.99%, 99.7%

Plane target, Cylindrical target,

 Arc target, Custom-shaped target

Vacuum Melting,PMCustomized

To receive a prompt quotation and expedited delivery, please provide complete target material specifications. This includes details on purity, dimensions, tolerance requirements, and any other technical specifications.

主要特性

轻量化:铝的密度低,使其在需要减轻重量的应用中非常有优势。

良好的导电性:铝的电导率高,是制造电气互连和导电层的理想材料。

耐腐蚀性:铝自然形成的氧化层能有效防止腐蚀,适用于多种环境。

易加工性:铝易于成形和加工,适合多种制造工艺。

铝靶材的主要用途

半导体制造:铝靶材用于薄膜沉积过程,作为电极和导电层,确保器件的稳定性和可靠性。

PVD涂层:铝靶材在物理气相沉积(PVD)过程中广泛应用,用于形成耐磨和耐腐蚀的薄膜。

电子器件:铝被用于制造电容器和其他电子元件,以实现良好的电气性能。

总结

铝靶材凭借其良好的物理和化学特性,在半导体、电子和其他工业领域具有广泛的应用前景,是现代制造中不可或缺的重要材料。

Aluminum(Al) <a href=https://www.supsemi.com/search/index/g/e.html?name=sputtering+Target target='_blank'>sputtering targets</a>.png

Aluminum(Al) Sputtering Targets.png

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