高纯实验室钛靶材（Ti）

钛溅射靶材是各种行业薄膜沉积工艺的重要材料。钛靶以其优异的强度重量比、高耐腐蚀性和生物相容性而闻名，广泛应用于半导体制造、光学涂层和航空航天应用。钛的熔点约为1668°C，可以承受高温环境，是先进制造工艺的理想选择。这些目标能够创造出耐用、高质量的薄膜，提高电子设备、医疗植入物和保护涂层的性能和可靠性。

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主要特性

高强度与轻量：钛的强度与钢相当，但重量却只有钢的约60%，非常适合需要轻量化的应用。

优良的耐腐蚀性：钛在多种环境中表现出色的耐腐蚀性，尤其是对海水和化学品的抵抗力。

良好的生物相容性：钛被广泛应用于医疗器械和植入物中，因为它对人体无害。

钛靶材的主要用途

半导体制造：钛靶材用于薄膜沉积，作为电极和导电层，确保器件的稳定性和可靠性。

PVD涂层：在物理气相沉积（PVD）过程中，钛靶材用于形成耐磨、耐腐蚀的保护层。

航空航天：钛的轻量和强度使其在航空航天部件中非常重要，包括发动机组件和结构件。

总结

钛靶材凭借其独特的物理和化学特性，在半导体、航空航天和医疗等领域具有广泛的应用前景，是现代工业中不可或缺的材料之一。