高纯度铌靶材 Nb Niobium 难熔材料 金属原料 磁控溅射 铌靶

产品详情：

铌靶材是由纯铌金属制成的靶材，主要用于薄膜沉积技术，特别是物理气相沉积 (PVD) 和溅射工艺。铌具有高熔点、优良的导电性、良好的抗腐蚀性以及超导特性，使其成为半导体、超导器件和其它高科技领域薄膜制备的重要材料。  铌靶材的纯度和尺寸可根据具体应用需求进行定制。

#### 物理化学性质

-成分: 纯铌 (Nb)，可能含有微量的杂质，其含量取决于靶材的纯度等级。

-密度:  约8.57 g/cm³

-熔点:  约2468 °C

-沸点:  约4744 °C

-导电性:  良好的导电性

-抗腐蚀性:  良好的抗腐蚀性，尤其是在许多酸性环境中。

-硬度:  中等硬度

-超导性:  在低温下具有超导性

#### 应用领域

-半导体制造: 用于制造高性能半导体器件中的薄膜，例如电极、互连层等。

-超导器件:  是制造超导薄膜和器件的关键材料。

-光学器件:  用于制造具有特定光学性能的薄膜。

-MEMS器件:  用于微机电系统中精密结构的制造。

-其他应用:  在一些特殊涂层和材料科学研究中也有应用