铝铌合金 铝铌靶材 磁控溅射 AlNb 金属合金 科研实验

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铝铌合金靶材是由铝 (Al) 和铌 (Nb) 组成的合金靶材，主要用于薄膜沉积技术，特别是在物理气相沉积 (PVD) 和溅射工艺中。该合金结合了铝的良好导电性和铌的高熔点及耐腐蚀性，使其在半导体和高科技领域中成为一种重要的薄膜材料。

#### 物理化学性质

- 成分: 铝和铌的比例可根据具体应用进行调整，以获得最佳性能。

- 密度: 密度约为 7.5 g/cm³，具体取决于合金成分。

- 熔点: 铝的熔点约为 660°C，铌的熔点约为 2468°C，铝铌合金的熔点介于两者之间。

- 导电性: 具有良好的导电性，适合用于电子器件。

- 抗腐蚀性: 由于铌的抗腐蚀特性，该合金在许多化学环境中表现出良好的稳定性。

- 强度: 铝铌合金具有较高的强度，适用于高温和高压环境。

#### 应用领域

- 半导体制造: 用于高性能半导体器件中的薄膜沉积，如电极和互连层。

- 高温应用: 适用于需要耐高温和抗腐蚀的环境，例如某些高功率电子器件。

- 光学器件: 可用于制造具有特定光学性能的薄膜。

- 微机电系统 (MEMS): 在MEMS中用于制造精密结构和功能层。