高纯实验室钛铝锆合金靶材TiAlZr

TiAlZr Alloy Sputtering Target 产品简介

简单介绍

TiAlZr合金靶材是由钛、铝和锆三种元素组成的高性能靶材，广泛应用于物理气相沉积（PVD）技术中。该合金靶材结合了三种金属的优良特性，特别适用于需要高温稳定性和耐腐蚀性的薄膜沉积应用。

Note: Purity, shape, thickness, and dimensions can all be customized,Please feel free to contact us for more details.

To receive a prompt quotation and expedited delivery, please provide complete target material specifications. This includes details on purity, dimensions, tolerance requirements, and any other technical specifications.

物理化学性质

- **密度**：TiAlZr合金的密度在钛（约4.5 g/cm³）和铝（约2.7 g/cm³）之间，具体值取决于合金的成分比例。

- **熔点**：熔点通常高于铝（660 °C），低于钛（1668 °C），具体熔点需根据合金成分实验确定。

- **硬度**：该合金靶材展现出较高的硬度，优于纯铝，得益于钛和锆的存在。

- **热导率**：热导率受三种元素影响，铝的高热导率有助于提升整体性能。

- **电导率**：合金的电导率是成分和微观结构的复杂函数，铝的高电导率有助于增强合金的电导性。

- **抗氧化性与耐腐蚀性**：形成的保护性氧化层可提高材料的抗氧化性和耐腐蚀性，特别在恶劣环境中表现优异。

应用

TiAlZr合金靶材广泛应用于以下领域：

1. **薄膜沉积**：用于制备高性能的薄膜，适用于电子器件、光电器件等。

2. **高温应用**：在要求高热稳定性和耐氧化性的场合，例如高温涂层和组件。

3. **特定功能材料**：可根据钛、铝和锆的比例设计出具有特定功能的材料。

4. **生物医学应用**：由于钛的生物相容性，该合金可用于生物医学植入物或涂层。

总结

TiAlZr合金靶材凭借其优越的物理化学性质，在半导体领域展现出广泛的应用潜力。随着技术的不断进步，这种合金靶材的应用范围有望进一步扩展，为高性能材料的发展提供支持。