OTF-1200X-S-DVD 小型坩埚移动管式炉

产品名称：紧凑型可移动坩埚RTP管式炉，最高1200℃，用于退火快速热处理

产品型号：OTF-1200X-S-DVD

产品描述：OTF-1200X-S-DVD是一种紧凑型可移动坩埚管炉，利用磁铁驱动坩埚移动。该设备的管径为50mm，最高工作温度为1200℃，专为直接蒸发沉积或快速热处理实验而设计，特别适用于二维材料的生长。

产品描述

OTF-1200X-S-DVD是一种紧凑型可移动坩埚RTP管式炉，利用磁铁驱动坩埚的运动。该设备的管径为50mm，最高工作温度为1200℃，专为直接蒸发沉积或快速热处理实验而设计，特别适用于二维材料的生长。

产品特征

1.高导热氧化铝样品托盘（50mm长x 25mm宽）固定在K型热电偶上。外部磁铁手动移动炉管，使热电偶和样品托盘在炉管内滑动，以蒸发或沉积样品材料。

2.经NIST认证的精密温度显示仪器通过法兰连接到热电偶，提供样品的实时温度读数。

3.炉管内塞内嵌磁铁，最高温度1200℃（位于炉体中心）。

4.该设备包括石英坩埚，可用于容纳蒸发材料或沉积基材。

产品参数

名称	紧凑型可移动坩埚RTP管式炉，最高1200℃退火
型号	OTF-1200X-S-DVD
主要参数	1.电源：208-240VAC，50/60Hz；最大功率：1.5KW。 2.最高工作温度：1200℃。 3.连续工作温度：1100℃。 4.加热速率：≤20℃/min。 5.加热区： -加热区长度：200mm（单温区）。 -恒温区长度：60mm（当炉子加热到1000°C时，温度偏差为±1°C）。 6.温度控制系统： -30段加热和冷却曲线。 -PID温度调节，带超温和热电偶断开保护。 -温度控制精度：±1ºC。 7.炉管：一根石英管（外径50mm x内径44mm x长1000mm）；包括四个氧化铝塞。 8.真空法兰：一对不锈钢密封法兰，入口为Φ6.35卡套接头，出口为KF25接口（用于连接真空泵）。 9.真空度：10⁻²torr（机械泵）。
炉体结构	1.一个高导热性氧化铝平面样品架（2“Lx1”W）固定在K型样品上，与样品架的热电偶可以在由磁铁手动驱动的石英管内移动，以在管内找到所需的温度位置进行蒸发或沉积。 2.一个NIST认证的精密温度监测器通过真空法兰上的馈通连接到热电偶和样品架。 3.一个磁体嵌入热块内，另一个磁体放置在管外。移动外部磁铁可以将管内带有热电偶的样品架移入或移出炉内安装了30段可编程温度控制器，可在炉中心设置最高工作温度1200℃ 4.包括一个小型石英坩埚，可用于容纳蒸发材料，或根据您的应用在顶部进行晶片沉积。
功率	110VAC或208-240VAC，50/60Hz（请在下单时确认电压） 1.5千瓦
最高温度	1200°C (<1 hour)
连续温度	1100°C ( continuous)
最大加热速率	<= 20 °C/min
加热区域	1.加热区长度：8英寸（200毫米），单区。下图显示了整个加热区的温度分布，请点击放大。 2.恒温区：2.3英寸（60毫米）（+/-1°C）@1000°C 3.在进行薄膜生长之前，您应测量自己应用的炉温曲线。
温度精度	+/- 1°C
加热元件	Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo
保修	一年有限制造商保修，终身支持（加工管、o型圈和卤素灯等易损件不在保修范围内，请在相关产品处订购更换件）。
认证	CE认证 NRTL认证（UL61010）或CSA认证需额外付费。
规格	盖子闭合时：1055mm（长）×300mm（宽）×400mm（高）盖子打开时：1055mm（长）×300mm（宽）×560mm（高）