OTF-1200X-4-RTP-HV 4″高真空RTP炉

产品名称：半导体晶片和太阳能电池退火用高真空RTP管式炉

产品型号：OTF-1200X-4-RTP-HV

产品描述：4英寸高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV是一种紧凑型快速热处理管式炉，配备4英寸石英管和高真空系统（机械泵+分子泵）。它是专门为半导体或太阳能电池晶片（最大3英寸）的退火而设计的。

产品描述

4英寸高真空RTP管式炉OTF-1200X-4-RTP-HV是一种紧凑型快速热处理管式炉，配备4英寸石英管和高真空系统（机械泵+分子泵）。它是专门为半导体或太阳能电池晶片（最大3英寸）的退火而设计的。

该机器使用10千瓦的红外灯进行加热，最大加热速率为50°C/s，30段温度控制，精度为±1°C。此外，可以通过RS485端口和控制软件在计算机上实现实时控制和温度曲线显示。

产品特征

1.石英样品架固定在滑动法兰上，使样品装载更容易。

2.将76mm AlN基板放置在样品架上，以支撑需要退火的样品。AlN具有高导热性，在样品放置区域提供优异的温度均匀性（±5°C）。

3.嵌入式热电偶可确保精确的温度测量。

4.采用PID自动温度控制，30段程序，具有过热和断线保护功能。

5.CE认证。

产品参数

名称	半导体晶片和太阳能电池退火用高真空RTP管式炉
型号	OTF-1200X-4-RTP-HV
安装要求	该设备需要在以下条件下运行：温度25°C±15°C，湿度55%Rh±10%Rh。 1.水：设备配备自循环冷却水机（填充纯化水或去离子水）。 2.用电：交流380V 50Hz（63A空气开关），要求良好接地。 3.气体：设备室需要填充氩气（纯度99.99%或更高）；必须提供氩气瓶（带Ø6mm双卡套连接器）。 4.工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，载重量200kg以上。 5.通风系统：必需。
参数	1.电源：炉体单相208V-240V，50Hz/60Hz，10KW；高真空系统AC 110V/220V可切换，50Hz/60Hz，110W。 2.炉体结构：双层莫来石钢结构。 3.石英管：外径110mm，内径103mm，长度380mm。 4.样品架：76mm。 5.加热元件：8个红外灯灯管，灯丝长度200mm，灯丝直径Ø10mm，灯长300mm。 6.加热区：102mm×305mm，均匀度±5°C。 7.热电偶：K型热电偶。 8.温度：最高温度1100°C，额定温度1000°C；1000°C和1100°C之间的保持时间不得超过600秒。 9.温度控制精度：±0.5°C。 10.最快加热速度：从室温到800°C为50°C/s，从800°C到1000°C为10°C/s。 11.高真空系统抽气时间：2分钟。 12.真空度：6.3×10⁻毫巴（40分钟内）。 13.真空法兰：KF-D25，配备两个高温O型密封圈。 14.流量计：16ml/min-160ml/min。 15.前置泵流量：10mbar、50Hz时为3.8L/min；60Hz时为4.4L/min。
规格	炉体：尺寸760mm×330mm×530mm，重量50kg。高真空系统：尺寸600mm×600mm×700mm，重量18kg。