VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪

产品名称：实验室薄膜单靶磁控溅射系统

产品型号：VTC-600-1HD

产品描述：VTC-600-1HD单靶磁控溅射系统是我公司自主研发的高真空镀膜设备。
它可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介电薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬膜和聚四氟乙烯薄膜等。

产品描述

VTC-600-1HD双靶磁控溅射系统配备有靶枪，可以选择强磁靶或弱磁靶。弱磁靶用于溅射非磁性材料，而强磁靶则用于溅射铁磁性材料。

与同类设备相比，它结构紧凑，易于操作，可用材料种类繁多，是实验室制备各种薄膜的理想设备。

产品特征

1.您可以选择靶枪，配备射频电源用于溅射非导电靶材料，或配备直流电源用于溅射导电材料。

2.它可以制备各种薄膜，应用广泛。

3.体积小，操作方便。

产品参数

名称	实验室薄膜单靶磁控溅射系统
型号	VTC-600-1HD
安装要求	该设备需要在25°C±15°C的温度和55%RH±10%RH的湿度下使用。水：该设备配备有自循环冷却水机（填充纯净水或去离子水）。电源：交流220V，50Hz，需要适当接地。气体：设备室必须充满氩气（纯度99.99%或以上）。必须提供arg-on气瓶（带Ø6mm双卡套接头）和压力调节器。工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，载重量200kg以上。通风：需要通风系统。
主要参数	1.电源电压：220V，50Hz 2.功率：<1KW（不含真空泵） 3.腔室内径：Ø300mm 4.极限真空度：9.0×10⁻Pa 5.样品台加热温度：室温-500°C，精度±1°C（温度可根据需要增加d） 6.靶枪数量：1支（可定制额外枪支） 7.靶枪冷却方式：水冷 8.靶材尺寸：Ø2〃，厚度0.1-5mm（厚度可能因材料而异） 9.直流溅射功率：500W；射频溅射功率：300W（可选择目标电源类型：直流或射频） 10.样品台：Ø140mm，可根据客户要求配备偏置功能，以获得更高质量的涂层。 11.样品台转速：可在1rpm-20rpm之间调节 12.工作气体：Ar等惰性气体 13.气体入口管线：质量流量计控制两个气体入口，一个为100 SCCM，另一个为200 SCCM
规格	主机尺寸：500mm×560mm×660mm 外形尺寸：1300mm×660mm×1200mm 重量：160公斤真空室规格：φ300×300mm

标准配件

Optional Accessories