VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪

产品名称：实验室薄膜三靶磁控溅射系统

产品型号：VTC-600-3HD

产品描述：VTC-600-3HD三靶磁控溅射系统是一种新开发的涂层设备，可用于制备单层或多层薄膜，包括铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介电薄膜、光学薄膜、氧化膜、硬膜和聚四氟乙烯（PTFE）薄膜。

产品描述

VTC-600-3HD三靶磁控溅射系统配备了三个靶枪：一个与射频电源配对，用于溅射非导电靶，两个与直流电源配对，分别用于溅射导电材料。与同类设备相比，它不仅应用广泛，而且尺寸紧凑，易于操作。它是实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于固态电解质和OLED的研究。

产品特征

1.配备三个靶枪：一个与射频电源配对用于溅射非导电靶，两个与直流电源配对用于溅镀导电材料（靶枪可根据客户需要更换）。

2.能够制备各种应用广泛的薄膜。

3.体积小巧，操作方便。

整个系统采用模块化设计，配备独立的真空室、真空泵组和控制电源，可根据用户需求进行调整。

5.用户可以根据自己的实际需要选择电源；一个电源可以控制多个靶枪，或者多个电源可以单独控制单个靶枪。

产品参数

名称	实验室薄膜三靶磁控溅射系统
型号	VTC-600-3HD
安装要求	该设备需要在25°C±15°C的温度和55%RH±10%RH的湿度下运行。 1.水：设备配备自循环冷却水系统（填充纯化水或去离子水）。 2.电源：交流220V 50Hz（110V可选），必须有良好的接地。 3.气体：设备室必须充满氩气（纯度99.99%或更高）；用户必须提供氩气瓶（带Ø6mm双卡套连接器）和压力调节器。 4.工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承载能力200kg以上。 5.通风：需要。
主要参数	1.电源电压：220V 50Hz 2.总功率：<2.5 kW 3.腔室内径：Ø300 mm 4.极限真空度：<E-6毫巴 5.工作温度：RT-500°C，精度±1°C（可根据实际需要提高温度） 6.靶枪数量：3 7.靶枪冷却方式：水冷 8.靶材尺寸：Ø2〃，厚度0.1mm-5mm（厚度可能因靶材而异） 9.直流溅射功率：500W（可选） 10.射频溅射功率：300W/500W（可选） 11.样品台：Ø140 mm，可根据客户对更高质量涂层的需求提供可选的偏置功能。 12.样品台转速：可在1 rpm至20 rpm范围内调节 13.保护气体：Ar、N2等惰性气体 14.进气管线：质量流量计控制两个进气口，一个为100 SCCM，另一个为200 SCCM。
规格	1.主机尺寸：500mm×560mm×660mm 2.外形尺寸：1300毫米×660毫米×1200毫米 3.重量：160公斤

标准配件

Optional Accessories