VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

产品名称：小型实验室双靶溅射沉积系统

产品型号：VTC-600-2HD

产品描述：VTC-600-2HD双靶磁控溅射系统是一种高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层薄膜，包括铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介电薄膜、光学薄膜、氧化膜、硬膜和聚四氟乙烯（PTFE）薄膜。

产品描述

VTC-600-2HD双靶磁控溅射系统配备两个靶枪和两个电源：一个射频电源用于溅射非导电材料，一个直流电源用于溅射导电材料。也可选择用于溅射铁磁材料的强磁靶。

与同类设备相比，它具有体积小、易于操作、可用材料范围广的优点，使其成为实验室制备各种材料薄膜的理想设备。

产品特征

1.配备两个靶枪：一个与射频电源配对，用于溅射非导电靶，另一个与直流电源配对，用以溅射导电材料。

2.能够制备各种应用广泛的薄膜。

3.体积小巧，操作方便。

产品参数

名称	小型双靶磁控溅射系统薄膜溅射镀膜机
型号	VTC-600-2HD
安装要求	该设备需要在25°C±15°C的温度和55%RH±10%RH的湿度下运行。 1.水：设备配备自循环冷却水系统（填充纯化水或去离子水）。 2.电源：交流220V 50Hz，必须有良好的接地。 3.气体：设备室必须充满氩气（纯度99.99%或更高）；用户必须提供氩气瓶（带Ø6mm双卡套连接器）和压力调节器。 4.工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承载能力200kg以上。 5.通风：需要。
主要参数	1.电源电压：220V 50Hz 2.功率：900W 3.腔室内径：Ø300 mm 4.极限真空度：9.0×10⁻Pa 5.样品台加热温度：RT-500°C，精度±1°C（温度可根据实际需要提高） 6.靶枪数量：2支（其他数量可应要求提供） 7.靶枪冷却方式：水冷 8.靶材尺寸：Ø2〃，厚度0.1-5mm（厚度可能因靶材而异） 9.直流溅射功率：500W；射频溅射功率：300W。（电源类型可选；可以选择两个直流电源、两个射频电源或一个直流和一个射频电源） 10.样品台：Ø140 mm，可根据客户对更高质量涂层的需求提供可选的偏置功能。 11.样品台转速：1转-20转可调 12.工作气体：Ar等惰性气体 13.进气管线：质量流量计控制两个进气口，一个为100 SCCM，另一个为200 SCCM。
规格	1.主机尺寸：500mm×560mm×660mm 2.外形尺寸：1300毫米×660毫米×1200毫米 3.真空室规格：φ300×300mm 4.重量：160公斤

Standard Accessories

Item No.	名称	数量
1	直流电源控制系统	1 set
2	射频电源控制系统	1 set
3	薄膜厚度监测系统	1 set
4	分子泵（从德国进口或国产，泵送速度更快）	1 unit
5	冷却器	1 unit
6	聚酯PU管（Ø6mm）	4m