小型磁控溅射真空镀膜机直流溅射仪喷金仪设备纳米涂层镀膜

产品名称：用于纳米半导体应用的直流溅射沉积系统

产品型号：SUP-Z1650-PVD

品牌名称：supsemi

产品描述：该机器能够在非导电或导电性差的样品上涂覆金（Au）、钯（Pd）、铂（Pt）和金/钯（Au/Pd）薄膜。适用于高校和企业的小规模实验。

产品描述：

SUP-Z1650PVD是一款紧凑型台式磁控溅射系统，功率可调。

尽管体积很小，但该仪器功能丰富，配备了电压和电流反馈、旋转样品台、样品高度调节和自动快门。

通过定时调节精确控制预溅射功率和沉积功率，可以均匀沉积各种金属薄膜。

透明石英真空室最大限度地减少了样品污染，旋转样品台确保了均匀的薄膜沉积。这种多功能系统可用于制造各种金属薄膜涂层。

产品参数:

名称	小型溅射仪
控制模式	7寸人机界面手动自动模式切换控制
工作电源	直流溅射电源
涂层功能	0-999秒5级可调功率、挡板位置和采样速度程序
电源	≤ 1000W
输出电压	≤ 1000V
输出电流	≤ 500mA （可调电流大小）
真空	机械泵≤5Pa（5分钟）分子泵≤5*10^-3Pa
溅射真空	≤ 10Pa
挡板类型	电气控制
真空室	直径160mm x 170mm的高硼玻璃+不锈钢腔室
样品台	可旋转直径为75（能够安装直径为70的基板）
样品台速度	每分钟8转
样品溅射源调整距离	40-105mm
真空测量	皮拉尼真空计（安装测量范围10E5Pa 1E-1Pa）
预留真空接口	KF25吸气口、KF16排气口、6mm卡套进气口
水冷接口	是（配备自循环水冷却器）
膜厚计（可选）	厚度范围0-9999A 厚度显示分辨率1A 速度范围0-999.9A 速率显示分辨率0.1A 晶体振荡器频率5-6MHz