VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪

产品名称：实验室研究用三靶等离子溅射镀膜机

产品型号：VTC-16-3HD

产品描述：VTC-16-3HD三靶等离子体溅射系统可以溅射三种靶材：金、银和铜。它不能溅射轻金属或碳。该机器具有旋转样品台，允许在同一样品上顺序沉积三个薄膜，使其适用于在实验室制备复合薄膜样品。

产品描述

VTC-16-3HD三靶等离子体溅射系统是一种紧凑型等离子体薄膜溅射设备（标准直流型），带有触摸屏控制面板。最大基板尺寸为2英寸，样品直径为Ø50毫米，加热温度可达500°C。

VTC-16-3HD三靶等离子溅射系统采用PLC控制面板进行设备管理，操作简单直观。这种紧凑型设备占用最少的实验室空间，用户友好，适用于广泛的应用。因此，它被广泛应用于主要大学和研究机构的实验室。

产品特征

1.PLC控制面板，带4.3英寸触摸屏和PID温度控制方法。

2.可控参数包括真空度、电流、目标位置和基板加热温度。

3.可与真空泵和不锈钢波纹KFD25快卸夹配合使用。

4.该系统还通过了CE认证。

产品参数

名称	小型三靶等离子溅射镀膜机薄膜溅射机
型号	VTC-16-3HD
安装要求	该设备需要在25°C±15°C的温度和55%RH±10%RH的湿度下运行。 1.水：不需要 2.电源：AC 220V 50Hz，必须有良好的接地 3.气体：设备室必须充满氩气（纯度99.99%或更高）；用户必须提供氩气瓶（带压力调节器） 4.工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，承载能力50kg以上 5.通风：不需要
主要参数	1.输入电源：通用110V/220V，2000W（含真空泵） 2.输出功率：1600V DC，50mA（最大电流） 3.石英盖：Ø160毫米×120毫米 4.样品台：Ø50 mm（可选加热样品台，最高温度可达500°C；溅射时间不得超过5分钟） 5.真空泵：120L/min旋片式真空泵 6.入口：配备精密可调针阀，便于调节气体流量 7.靶材：直径Ø47mm，厚度0.1mm-3mm；可以溅射Au、Ag、Pt、Cr、Ni；不能溅射氧化物、半导体、一些轻金属、铝、锌、碳等。
规格	尺寸：350mm×360mm×350mm 重量：50kg

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