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球形脉冲激光沉积系统(PLD)球形脉冲激光沉积系统(PLD)

球形脉冲激光沉积系统(PLD)

产品名称:球形脉冲激光沉积(PLD)系统

产品描述:该系统是一个球形脉冲激光沉积(PLD)开发工具。脉冲激光沉积(PLD)涉及将激光聚焦在靶材料的小面积上,利用激光的高能量密度蒸发甚至电离靶材料的一部分。

这使得材料能够从靶材上分离并向基材移动,在基材上沉积形成薄膜。

产品描述

在各种薄膜制造方法中,脉冲激光沉积(PLD)技术被广泛使用。它可用于制备各种材料的薄膜,包括金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物和氟化物。它还能够合成一些难以生产的材料,如金刚石和立方氮化硼薄膜。

产品特征

1.环境温度:10℃至35℃

2.相对湿度:不大于75%

3.供水:水压0.2MPa至0.4MPa,水温15℃至25℃

4.设备周围环境应清洁,空气清新,不应含有可能导致电气元件或金属表面腐蚀,或导致金属之间导电的灰尘或气体。

产品参数

名称球形脉冲激光沉积(PLD)系统

安装要求

1.环境温度:10℃至35℃

2.相对湿度:不大于75%

3.电源:220V,单相,50±0.5Hz

4.设备功率:4KW以下

5.供水:水压0.2MPa至0.4MPa,水温15℃至25℃

6.设备周围环境应清洁,空气清新,不应含有可能导致电气元件或金属表面腐蚀,或导致金属之间导电的灰尘或气体。

主要参数

1.该系统具有真空室的球形结构,带有手动前开门。

2.真空室的所有部件和配套零件均由优质不锈钢(304)制成,氩弧焊,表面经过玻璃珠喷砂和电化学抛光处理。

3.真空室的有效尺寸为Φ300mm,配有可见的观察窗。

4.极限真空:≤6.67×10^-5 Pa(脱气后使用600L/S分子泵,8L/S背压泵实现);

-系统真空泄漏率:≤5.0×10^-7 Pa·L/S;

-该系统可在40分钟内从大气压达到8.0×10-4Pa的真空;停泵12小时后,真空度≤20Pa。

5.样品台:样品尺寸φ40mm,转速1-20RPM,基板台与旋转靶之间的距离为40-90mm。

6.最高样品加热温度:800℃,温度控制精度为±1°C,使用温度控制仪表进行调节。

7.四位旋转靶标:每个靶标位置为φ40mm,快门只曝光一个靶标位置。激光束需要照射到暴露的目标位置。旋转靶具有轨道和旋转功能。

8.真空室配有烘烤、照明和水压报警装置。

9.一个用于气体入口控制的质量流量控制器(MFC):0-100SCCM。



Spherical Pulsed Laser Deposition (PLD) System.png

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