OTF-1200X-4-III-9HV 用于CVD或扩散的带真空泵系统和PLC触摸屏的分体式三区管式炉

Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo

最高加热温度

1200℃

连续加热温度

1100℃

最大加热速率

<=20°C/min

加热区域长度

•三个区域：（总共880mm，35英寸）

•区域1：220毫米+区域2：440毫米+区域3：220毫米

管材尺寸和材料

熔石英管

外径100毫米x内径92毫米x内径1400毫米

温度控制器

•三个30段可编程精密数字温度控制器，分别控制每个加热区。

•PID可调，具有自动调谐功能，可确保温度稳定在+/-1℃以内。

•每个控制器都对过热和热电偶断裂提供全面保护。

三个K型热电偶

•两个不锈钢真空法兰，带KF-25泵接头、两个针阀和一个1/4“世伟洛克卡套管接头。

•六个高温硅胶O型圈，适用于300°C以下。

•包括两对氧化铝热块，用于保护法兰免受热辐射。

•一个KF-40真空波纹管

•三个KF-40快速夹具。

•两个KF-25快速夹具。

高压站

高真空站

结构：

•移动推车尺寸：600（长）x 600（宽）x 700（高），mm

•最大负载：顶部600磅

•分子泵控制面板：LCD数字

•内部：德国制造的菲佛真空泵

•包括真空传感器

真空传感器：

•真空传感器有一个KF-25连接器。

•高真空计（测量范围10^-8毫巴~10^3毫巴）

控制面板

•一键操作-按下“启动”按钮后，隔膜泵和涡轮分子泵将启动。

•系统控制的旋转速度-控制器将根据反应室的真空度和泄漏率控制涡轮机上下旋转的速度。

•自我保护-如果反应室的泄漏率过高，无法达到高真空，系统将保护泵免受过热和过电流的损坏。

•液晶屏-双线参数检查界面使工作更容易处理。

体积流速：

•氮气N2 33 L/s

•氦39升/秒（2340升/分钟）

•氢气H2 32 L/s

工作范围：从1000mbar到<1E-7mbar

极限压力：10^-5托（带管式炉）

质量流量控制器站 

9 precision mass flow meters controllers are installed in the bottom mobile cart with the digital display panel of +/-1.5% of Full Scale.

• Controller 1: 0~100 SCCM

• Controller 2: 1~199 SCCM

• Controller 3: 1~199 SCCM

• Controller 4: 1~499 SCCM

• Controller 5-9: measuring range can be customized upon request

• Each MFC Station has four 1/4" Swagelok tube connects. And four on/off valves for each gas route. The fifth one is used as the gas outlet.

• The 1/4" PTFE gas pipe is included in the standard package.

One-year limited manufacturer's warranty (Consumable parts such as processing tubes, O-rings and heating elements are not covered by the warranty, please order replacements at related products below).