OTF-1200X-III-HVC-LD 1200C三区管式炉，带高真空站4通道MFC气站，用于CVD或扩散

1200C三区管式炉，带高真空站4通道MFC气站，用于CVD或扩散

产品描述

OTF-1200X-III-HVC系列炉工作站由OTF-1200X-III系列三区管式炉、精密质量流量气体控制站、高真空站和其他组装部件组成。该工作站的最高工作温度为1200°C。最终真空率达到10^-4torr（提供我们的密封组件）。

质量流量气体控制站将几种气体混合在一起，并将混合气体输入炉内的熔融石英管中。

它能够在真空状态和保护气体保护下进行CVD、扩散和其他热处理实验。该炉配有一个4通道数字LED显示屏，用于气体流量控制站。

Product Parameters

OTF-1200X-III 系列管式炉
外壳	- 双层钢壳，配备风冷系统。 - 内置恒温器，当外壳温度超过55°C时，自动控制冷却运行。
管道	- 材料：熔融石英管 - 随炉体包含一个处理管。 - 请联系我们以指定管道直径。
功率	7KW
使用电压	交流电208-240V单相，50/60Hz
加热元件	Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo
工作温度	•最高加热温度：1200°C •连续工作温度：1100°C
加热区域长度	总加热区：900mm（300mm+300mm+300mm）
温度控制器	•三个精密温度控制器，分别控制三个区域。 •具有30步可编程段的PID自动控制。 •温度精度：±1°C •热电偶：内置于炉内的K型
真空密封	一对不锈钢真空法兰，带： •一个机械压力计 •两个针阀 •一个用于高真空站的KF-25连接器。
高真空站结构	•移动推车尺寸：600（长）x 600（宽）x 700（高），mm •最大负载：顶部600磅 •分子泵控制面板：LCD数字 •内部：德国制造的菲佛真空泵 •包括真空传感器
流量	• Nitrogen N2 33 L/s • Helium He 39 L/s (2340L/minute) • Hydrogen H2 32 L/s
工作范围	从 1000 mbar 到 <1E-7 mbar
极限压力	<1E-8mbr（无任何泄漏）
流量气体控制结构	•2-9通道气体控制系统，带PLC触摸屏和PC操作软件LED显示屏 •4通道MFC由316不锈钢制成，气体流量范围如下：控制器1:0~100SCCM 控制器2:199SCCM 控制器3:199SCCM 控制器4:1~499 SCCM •4通道气体通过气体混合罐：Φ80X120mm尺寸：600（长）x 745（宽）x 700（高），mm
流量气体控制电源	18W
流量气体控制电压	AC 208-240V, 单相, 50/60Hz
保修	一年有限制造商保修（加工管、O型圈和加热元件等易损件不在保修范围内，请在相关产品处订购替换件）。