OTF-1200X-HVC3-series 用于CVD或扩散的1200C高真空管式炉和3通道气流站

产品名称：用于CVD或扩散的1200C高真空管式炉和3通道气流站

产品型号：OTF-1200X-HVC3

产品描述：OTF-1200X-HVC系列炉工作站由OTF-1200X系列管式炉、精密质量流量气体控制站、高真空站和其他组装部件组成。该工作站的最高工作温度为1200°C。最终真空率达到10^-4托（提供我们的密封组件）。

产品描述

OTF-1200X-HVC系列炉工作站由OTF-1200X系列管式炉、精密质量流量气体控制站、高真空站及其他组装部件组成。该工作站的最大工作温度为1200°C，极限真空率可达10⁻⁴ torr（使用我们提供的密封组件）。

质量流量气体控制站能够将三种气体混合在一起，并允许混合气体流入炉内的熔融石英管中。此系统适用于CVD、扩散及其他在真空状态和保护气体下的热处理实验。

产品参数

结构
外壳	•双层钢制外壳，带空气冷却。 •内置恒温器，在温度高于55°C时自动控制冷却运行。
工作管道	材质：熔石英管炉内配有一根加工管。请联系我们以指定管径。
功率	2.5KW
额定电压	AC 208-240V 单相, 50/60Hz
加热元件	Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo
工作温度	•最高加热温度：1200°C •连续工作温度：1100°C
加热区域长度	•总加热区：440mm •恒温区：150mm（±1°C）
温度控制	•具有30步可编程段的PID自动控制。 •温度精度：±1°C •热电偶：内置于炉内的K型
真空密封	一对不锈钢真空法兰，带： •一个机械压力计 •两个针阀 •一个用于高真空站的KF-25连接器。
高真空站结构	•移动推车尺寸：600（长）x 600（宽）x 700（高），mm •最大负载：顶部600磅 •分子泵控制面板：LCD数字 •内部：德国制造的菲佛真空泵。 •包括真空传感器。
流量速率	• Nitrogen N2 33 L/s • Helium He 39 L/s (2340L/minute) • Hydrogen H2 32 L/s
工作范围	From 1000 mbar to <1E-7 mbar
极限压力	<1E-8 mbar (无泄漏情况)
质量流量气体控制结构	•316不锈钢阀门气体混合罐：Φ80X120mm 600mm（长）x 745mm（宽）x 700mm（高）6英寸彩色触摸屏控制面板，便于参数设置。 •触摸屏控制和PC遥控器可切换。
质量流量气体控制功率	每个通道23W
质量流量气体控制电压	AC 220V/50Hz 单相
保修	一年有限制造商保修（加工管、O型圈和加热元件等易损件不在保修范围内，请在相关产品处订购替换件）。