RTP-II-5-R--CSS and RTP Furnace With Rotating Holder for 5x5

RTP-II-5-R--CSS and RTP Furnace With Rotating Holder for 5x5

产品名称：CSS RTP炉，带旋转支架，适用于5x5“晶圆和近距离升华膜涂层

产品型号：SUP-RTP-II-5-R

产品描述：SUP-RTP-II-5-R是一种先进的快速热处理炉，专为在最高800°C的工作温度下涂覆高达5英寸圆形或方形晶片样品的CSS（近空间升华）薄膜而设计。

产品描述

RTP-II-5-R是一种先进的快速热处理炉，专为在最高800°C的工作温度下涂覆高达5英寸圆形或方形晶片样品的CSS（近空间升华）薄膜而设计。

炉子由两组卤素加热器（顶部和底部）分别加热，最大加热速率为10ºC/s。顶部样品架可旋转，以实现均匀涂层。它是研究CdTe、硫化物和钙钛矿太阳能电池等新一代太阳能电池薄膜的优秀工具。

产品参数

结构	1.炉膛、两个温度控制器和两个通道气体流量计集成在一个移动式铝合金框架中。 2.腔室由高纯度熔融石英管制成，尺寸为11“外径/10.8”内径x 9“高。 3.真空法兰由316不锈钢制成，由电动机升降。 4.两个5“x5”红外加热板，间距可调。 5.顶部样品架可以0-7RPM的速度旋转。
真空法兰	1.顶部法兰有一个KFD-25真空口和一个气体出口（需要1/4英寸的管道），可以手动上下滑动，轻松装卸基材和蒸发材料。 2.底部法兰有一个KFD-25真空端口，带有一个带针阀的进气口（需要1/4英寸的管道）。 3.法兰采用双硅胶o型圈密封，使用优质机械泵可达到10E-2 Torr的最大真空压力，使用分子泵（不包括真空泵，请单独订购）可达到10E-5 Torr的最高真空压力。 4.顶部法兰上安装了一个数字真空计。 5.精密防腐数字真空表采用标准包装（自2016.03.24起）。
加热器和样品架	1.两个独立控制的加热器，间隙可手动调节，范围为2-30mm。 2.加热器由不锈钢制成，带有水冷套，可减少热辐射，并能够快速冷却。 3.直径3.5英寸的圆形晶片架内置于顶部加热器中，用于固定基板。 4.包括一套高导热AlN板（直径5英寸x 0.5mm厚）（放置在基板背面，使其均匀加热）。 5.配备58L/min循环冷水机组，节约水源。 6.顶部样品架可以0-7RPM的可调速度旋转 7.使用20个卤素灯作为加热元件，进行快速热处理。
温度控制器	1.两个30段可编程的精密数字温度控制器可独立控制顶部和底部加热器。 2.每个控制器都有一个PID自动调谐功能，以保护加热器免受过冲，还有一个报警功能，以防止过热损坏热电偶。 3.安装了PC通信接口和软件，用于记录温度曲线（详见下图），如下图所示。
工作温度	1.每个加热器的最高温度：≤800ºC。 2.两个加热器之间的最大温差：≤300ºC取决于两个加热器的间距： -间距30mm最大温差：仅加热底部315ºC
加热和降温速率	加热：<8ºC/s（仅加热单个加热器）冷却速度：最大<10ºC/s（600-100ºC）。
工作电压	208 - 240VAC, single-phase, 50A air breaker
保修	一年有限，终身支持。（石英管、加热灯等易损件不在保修范围内）