VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪

产品名称：实验室薄膜三靶磁控溅射系统

产品型号：SUP-600-3HD-1000

产品描述：VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射系统是我公司自主研发的高真空镀膜设备。

它可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介电薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬膜和聚四氟乙烯薄膜等。

产品描述

VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射系统配备三个靶枪和三个电源：一个射频电源用于溅射非导电材料，一个直流电源用于溅射导电材料。可选的强磁靶可用于溅射铁磁材料。

与同类设备相比，它具有尺寸紧凑、操作方便、可用材料范围广的优点，使其成为实验室制备各种薄膜的理想设备。

产品特征

1.配置三个靶枪：两个与射频电源配对，用于溅射非导电靶材料，一个与直流电源配对，用以溅射导电材料。

2.能够制备各种应用广泛的薄膜。

3.体积小巧，操作方便。

产品参数

名称	实验室薄膜三靶磁控溅射系统
型号	SUP-600-3HD-1000
安装要求	该设备需要在25°C±15°C的温度和55%RH±10%RH的湿度下使用。 1.水：该设备配备有自循环冷却水机（填充纯净水或去离子水）。 2.用电：交流220V，50Hz，要求正确接地。 3.气体：设备室必须充满氩气（纯度99.99%或以上）。必须提供氩气瓶（带Ø6mm双卡套接头）和压力调节器。 4.工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，载重量200kg以上。 5.通风：需要通风系统。
主要参数	1.输入电源：220V/50Hz 2.溅射靶材数量：3 3.腔室内径：Ø300mm 4.靶枪冷却方式：水冷 5.极限真空度：7.4E-5 Pa 6.真空室规格：Φ300×330mm 7.真空系统：VRD-16机械泵、FF-100/150涡轮分子泵 8.真空恢复：系统可在≤30分钟内从大气压抽空至5.0E-3 Pa（短期暴露于大气中） 9.充气系统：2个质量流量计（1个用于100sccm的氩气，1个用于200sccm的氩）；特殊气体可定制 10.溅射靶材规格：Φ2“，厚度0.1-5mm（厚度可能因材料而异） 11.样品台：Φ70mm，可加热（室温至1000℃）
规格	主机尺寸：宽900mm×深650mm×高1100mm

Optional Accessories

Item No.	名称	数量
1	金、铟、银、铂等各种靶材	可选
2	用于溅射铁磁材料的可选强磁靶	可选
3	遮蔽板	可选
4	振动样品台	可选
5	双层旋转涂层夹具	可选