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氧化铝Al2O3陶瓷基片

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GSL-1500X-50HG-AM 全自动紧凑型氢管炉

OTF-1200X-III-80-F3LV 用于CVD或扩散的三区石英管炉（直径80mm，最高1200C）

OTF1200XSDFPESL PECVD的双滑管炉

氧化锆（ZrO2）陶瓷基片

氧化锆（ZrO2）陶瓷基

氮化铝陶瓷片AlN

氮化铝陶瓷片AlN

OTF-1200X-4-III-9HV 用于CVD或扩散的带真空泵系统和PLC触摸屏的分体式三区管式炉

OTF-1200X-80-DFSL 双区管式滑动炉

无水氟化铟 Anhydrous Indium Fluoride, InF3

无水氟化铟 Anhydr

GSL-1700X-S60HG 最大1700C氢气管式炉，带60mm铝管和氢气探测器

OTF-1200X-III-5-C3LVSF 三区炉（直径5英寸，最高1200C）

OTF1200XSDFPESL 双区滑动PECVD

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