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  • OTF-1200X-S-II-PEC4 1200ºC可旋转双区PE-HPCVD旋转炉
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OTF-1200X-S-II-PEC4 1200ºC可旋转双区PE-HPCVD旋转炉OTF-1200X-S-II-PEC4 1200ºC可旋转双区PE-HPCVD旋转炉

OTF-1200X-S-II-PEC4 1200ºC可旋转双区PE-HPCVD旋转炉

产品描述

OTF-1200X-S-II-PEC4是一款最高可达1200ºC的可旋转双区等离子体增强混合物理化学气相沉积(PE-HPCVD)系统。该系统包括300W射频(RF)等离子体发生器及匹配网络、上游源蒸发舟及电源、四通道质量流量控制(MFC)气体输送系统以及高性能真空泵。这套完整的系统是热处理无机化合物粉末的优秀工具,具有卓越的温度和表面涂层均匀性(例如:在锂离子电池阴极粉末表面制备导电涂层)。

产品参数

系统结构

- 集成300W(13.56MHz)射频电源及匹配网络,实现等离子体增强处理,显著降低加工温度。(等离子体发生器位于图片右侧)

- 齿轮驱动的管道旋转允许“混合”型处理,以实现最佳的处理均匀性。

- 四通道气体混合站配备质量流量控制(MFC),提供精确的气体输送控制。

- 上游源蒸发舟与钨线圈的集成,使您能够升华固体前驱体,以满足混合物理化学处理的需求。

双区旋转炉

- 工作温度:最高1100ºC(持续时间<1小时),连续加热时为1000ºC。

- 配备两个PID温度控制器,具有30个可编程段。

- 输入功率:208 – 240 VAC,单相,最大功率为1.5KW。

- 高纯度铝土矿纤维绝缘材料,最大限度地节约能源。

- 齿轮直流电机驱动石英管,变速范围为2 - 10 RPM。

- 两个加热区:每个区域长度为4英寸(100 mm),总加热区长度为8英寸(200 mm)。

 

等离子体射频电源


- 输出功率:5 - 300W 可调,稳定性为±5%。

- 射频频率:13.56 MHz,稳定性为±0.005%。

- 反射功率:最大100W。

- 匹配方式:自动。

- 电源:208-240VAC,单相,50Hz。

 蒸发舟

- 工作温度:最高1100ºC(持续时间<1小时),连续加热时为1000ºC。

- 0.7ml铝土矿坩埚,周围环绕钨加热线圈。

- 插入K型热电偶,以确保源材料的准确温度测量。

- 工作电流:<= 30 A。

Evaporation Boat Schematic.jpg

Evaporation Boat.jpg


密封法兰

- 标准:2英寸外径熔融石英处理管。

- 包含一对1英寸不锈钢密封法兰,配有可旋转的气体连接针阀,可立即使用。

- 每端安装有一对1英寸外径快速断开法兰,配有KF25接口。

- 使用磁流体密封旋转接头,使管道旋转时不会扭曲火线或下游附件(如气体、粉末和电力输送线)。

Sealing Flanges.jpg

管道旋转速度

- 0 - 5 RPM 可调速。

真空泵与真空计

- 附带EQ-FYP高性能双级真空泵。

- 在泵与管道法兰之间连接KF25适配器和不锈钢波纹管。

- 处理管内可实现10E-2 Torr的真空。

- 注意:真空计可提供,需另行收费,请联系我们。

气体混合站 (MFC)

- 底部机壳上安装有四个精密质量流量计(精度为0.02%),配备数字显示,能够自动控制气体流量。

  • MFC 1:气体流量范围为0~100 SCCM

  • MFC 2&3:控制范围为0~200 SCCM

  • MFC 4:控制范围为0~500 SCCM

- 气体进出口配件:6mm外径管配件

- 电源:208-240VAC,50/60Hz

- 不锈钢针阀用于手动开/关气体供应控制。

- 大型PLC触摸屏控制,便于设置流量。

温度控制

- 采用两个加热区设计,每个区域配备独立温度控制器。

- 精确的PID控制加热、冷却速率和保持时间,支持30个可编程段。

- 内置过热和断热电偶保护。

- 过温保护和报警功能,允许无人值守操作。

- 温度精度为+/- 1 ºC。

- 三个K型热电偶(每个区域一个)。

- 配备RS485通信端口。

规格

- 炉体尺寸:1400mm 长 x 600mm 宽 x 1250mm 高(打开盖子时);

  气体混合站尺寸:600mm 长 x 850mm 宽 x 700mm 高。

- 净重:400 磅。

- 装运重量:500 磅。

PE-HPCVD Rotary Furnace.jpg

保质期

一年有限制造商保修(消耗部件如处理管、O型环和加热元件不在保修范围内)

PE-HPCVD Rotary Furnace.jpg


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