GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪

产品名称：用于薄膜沉积和SEM样品制备的磁控溅射系统

产品型号：GSL-1100X-SPC-16M

产品描述：GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射系统利用真空环境中靶材料的粒子轰击产生的溅射效应，使原子或分子从固体表面喷射出来并沉积在基板上形成薄膜。该工艺是一种用于薄膜制备的物理气相沉积（PVD）技术。

产品描述

该系统旨在成为一种简单、可靠、经济的涂层设备，适用于在实验室制备各种复合薄膜样品，以及制造由非导电材料制成的实验电极。

GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射系统可用于制备扫描电子显微镜（SEM）样品，其紧凑的设计节省了实验室空间。它易于操作，非常适合初学者。

产品特征

1.配备真空计和溅射电流表，实时监控运行状态。

2.控制真空室压力、电离电流，并通过调节溅射电流控制器和微真空阀来选择所需的电离气体，以实现最佳的涂层条件。

3.钟罩边缘的橡胶密封圈经过特殊设计，可防止玻璃钟罩在长时间使用过程中碎裂。

4.陶瓷密封高压电极连接器比常用的橡胶密封更耐用。

5.根据电场中的气体电离特性，使用大容量溅射真空室和相应的靶区，确保溅射涂层更加均匀和纯净。

6.溅射头采用珀尔帖冷却技术，实现高性能、细颗粒涂层。

7.可提供水冷溅射头和水冷样品台。

产品参数

名称	磁控溅射薄膜沉积系统及SEM样品制备
型号	GSL-1100X-SPC-16M
安装要求	本设备必须在以下条件下使用：温度25°C±15°C，湿度55%RH±10%RH。 1.水：设备需要自循环冷却水系统（使用纯化水或去离子水）。 2.用电：交流220V，50Hz，要求正确接地。 3.气体：腔室需要填充氩气（纯度99.99%以上）；用户必须提供氩气瓶（带压力调节器）。 4.工作台面：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上。 5.通风：不需要。
主要参数	1.目标：Ø50mm 2.真空室：Ø160mm×120mm 3.真空度：≤4×10^-2毫巴 4.最大电流：50mA（可选100mA） 5.可设置时间限制：9999秒 6.微型真空阀：连接Ø3mm软管 7.最大电压：1600V DC 8.机械泵：2L/s 9.目标材料： -尺寸要求：φ50mm×（0.1-0.5）mm（厚度） -适用于Au、Ag、Cu等金属的溅射（可从我公司购买）
规格	尺寸：360毫米×300毫米×380毫米整机重量：50kg 主机净重：15kg