VTC-16-1HD单靶磁控溅射仪

产品名称：实验室高效薄膜沉积用单靶磁控溅射镀膜机

产品型号：VTC-16-1HD

产品描述：VTC-16-1HD单靶磁控溅射系统是我公司新开发的高真空镀膜设备。

它可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介电薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬膜和聚四氟乙烯（PTFE）薄膜。

产品描述

单靶磁控溅射系统配备了一个靶枪，可以在强磁靶和弱磁靶之间进行选择。弱磁靶用于溅射非磁性材料，而强磁靶适用于溅射铁磁性材料。

与同类设备相比，它具有体积小、操作方便、可用材料范围广的优点，是实验室制备各种材料薄膜的理想设备。

产品特征

1.一种靶枪，具有用于溅射非导电靶材料的匹配RF电源或用于溅射导电材料的DC电源。

2.靶头直接位于样品台上方，便于安装易碎的靶材料，降低了污染样品的风险。

3.能够制备各种应用广泛的薄膜。

4.设计紧凑，操作方便

产品参数

名称	用于实验室高效薄膜沉积的单靶磁控溅射系统
型号	VTC-16-1HD
安装要求	本设备必须在以下条件下使用：温度25°C±15°C，湿度55%RH±10%RH。 1.水：设备配备自循环冷却水系统（使用纯化水或去离子水）。 2.用电：交流220V，50Hz，要求正确接地。 3.气体：腔室需要填充氩气（纯度99.99%以上）；用户必须提供氩气瓶（带Ø6mm双卡套接头）和压力调节器。 4.工作台面：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上。 5.通风：需要通风系统。
主要参数	1.电源电压：220V，50Hz 2.功率：900W 3.腔室内径：φ164mm 4.极限真空度：9.0×10^-4 Pa 5.样品台加热温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提高温度） 6.靶枪数量：1支（位于真空室下方） 7.靶枪冷却方式：水冷 8.目标材料尺寸：φ2〃，厚度0.1-5mm（厚度可能因材料而异） 9.样品台：φ86mm 10.样品台转速：可在1rpm至20rpm之间调节 11.直流溅射功率：500W；射频溅射功率：300W 12.开盖方式：自动上盖 13.工作气体：Ar等惰性气体 14.入口气体路径：质量流量计控制的气体入口，可在1至100 SCCM范围内调节
Product specifications	主机尺寸：750mm×450mm×1020mm 真空室规格：φ164×172mm 重量：100kg

Standard Accessories

Item No.	名称	数量
1	直流电源控制系统	Optional
2	射频电源控制系统	1 set
3	分子泵（德国进口或国内泵送速度较高）	1 set
4	制冷机	1 set
5	冷却水管（Ø6mm）	2 set

Optional Accessories

Item No.	名称	数量
1	金、铟、银、铂等各种靶材	Optional
2	用于溅射铁磁材料的可选强磁靶	Optional
3	薄膜厚度测量系统	Optional