• 半导体晶片和太阳能电池退火用RTP管式炉

  RTP管式炉RTP-1000-LV3F具有三通道流动混合功能，专为退火半导体晶片、太阳能电池和其他样品（高达3英寸）而设计。它配备了三个流量计和一个机械泵。该机器使用9 kW红外灯加热，最大加热速率为100°C/s。它还具有RS485接口，允许通过计算机上的软件进行操作控制和温度曲线显示。

• 半导体晶片和太阳能电池退火用高真空RTP管式炉

  4英寸高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV是一种紧凑型快速热处理管式炉，配备4英寸石英管和高真空系统（机械泵+分子泵）。它是专门为半导体或太阳能电池晶片（最大3英寸）的退火而设计的。

• 可滑动4英寸外径RTP管式炉

  可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL是一种利用红外灯加热和可移动炉体快速冷却的快速热处理炉，最大加热速率为100°C/s，冷却速率为5°C/s。

• 紧凑型可移动坩埚RTP管式炉，最高1200℃，用于退火快速热处理

  OTF-1200X-S-DVD是一种紧凑型可移动坩埚管炉，利用磁铁驱动坩埚移动。该设备的管径为50mm，最高工作温度为1200℃，专为直接蒸发沉积或快速热处理实验而设计，特别适用于二维材料的生长。

• 双区红外加热RTP管式炉

  OTF-1200X-IR-IISL是一款RTP管式炉，配备双区红外加热4英寸内径石英管和两个滑动样品架，适用于实验室使用，结构紧凑，操作简单。它能够实现50°C/s的最大加热速率和117°C/min的冷却速率。

• 1200C 滑动式RTP管式炉

  OTF-1200X-RTP-5S是一种5英寸的滑动炉，带有电阻加热和电动滑动电机，用于快速加热和冷却。它能够实现每秒2°C/4°C的最大加热冷却速率，并将最大直径为4英寸的晶片退火至1200°C。

• 滑动式RTP管式炉

  OTF-1200X-SL是一种单温区快速热处理电滑动炉。它的最大加热速率为10℃/min，底部装有滑轨，使炉子可以从管子的一侧滑动到另一侧，以快速加热和冷却。该炉也可用于石墨烯和碳纳米管的CVD生长。它使用触摸屏和PLC控制，可以调节速度。

• 双滑动RTP管式炉

  双滑动RTP管式炉

• 双区RTP管式炉

  双区RTP管式炉

• 自动滑动RTP管式炉

  自动滑动RTP管式炉

• 自动双区RTP管式炉

  OTF-1200X-50-DFSL是一个由两个Ø50 mm炉组成的系统，最高工作温度为1200ºC。它被设计用于生长2D过渡金属二硫化物（TMD）。

• 高真空下最高1200C带样品滑动功能的可拆分RTP管式炉

  OTF-1200X-DVD-M是一种可分体式管式炉，具有坩埚滑动功能（手动推动），可在高真空或气密气氛中使用，最高温度为1200°C。真空密封手动推坩埚由磁耦合真空推系统实现。该设备可在各种气氛下进行钛板退火处理、快速热处理、HPCVD、快速热蒸发（RTE）和直接气相沉积（DVD）。

• 自动滑动RTP管式炉

  OTF-1200X-80-DVD是一种1200ºC、外径80 mm的管式炉，坩埚内有气密自动滑动机构，可以在受控气氛下移动到所需的温度位置作为升华源，实现炉中心基板的DVD或PVD。

• 自动RTP管式炉

  OT F-1200XS6-ASD是一款外径6英寸、温度高达1200°C的自动管式炉。它通过PC一键式自动完成泵吹扫循环、气体流动、加热和冷却。

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